유기박막증착 (iCVD)

iCVD(initiated Chemical Vapor Deposition)는 휘발성을 가진 단량체와 개시제를 기화하여 기상 중합반응을 통해 고분자 박막을 증착하는 기술입니다.
개시제는 챔버 내 고온 필라멘트에 의해 분해되어 단량체의 기상 중합반응을 유도합니다.
유기용매를 사용하는 기존의 고분자 박막 증착 방식과는 달리 기상 증착공정이기 때문에 박막의 순도가 매우 높습니다. 또한 iCVD는 완전한 건조 공정이기 때문에
다양한 종류의 기판, 특히 외부의 기계적, 화학적 충격에 약한 기판에도 적용이 가능합니다.