ALD 박막증착

ALD(Atomic Layer Deposition)는 원하는 박막을 원자층 단위로 증착할 수 있는 기술입니다.
Precursor의 흡착, Purge, Reactant와의 반응, purge를 한 cycle로 하며, 이 cycle 수를 조절하여 박막 두께를 미세하게 조절할 수 있습니다.
일반적인 CVD와 달리 기상에서의 반응이 아닌 표면에서의 반응을 특징으로 합니다. 이러한 자기제한적반응에 의해 원자층 단위로 증착이 가능하며 균일도 및 Step Coverage
또한 매우 우수합니다.